iPCL: Pre-training for Chip Layout

研究要点

iPCL 提出面向芯片版图的预训练范式，连接表征、生成与评估。产品侧对应 iPCL-R/P/M 三头，是版图基础模型方向的主论文入口。

完整条目

Xingquan Li*, Weiguo Li, Xinhua Lai, Junfeng Liu, Rui Wang, iPCL: Pre-training for Chip Layout, in Proceedings of the 29th Asia and South Pacific Design Automation Conference (ASP-DAC), 2026. (CCF-C)

与产品的关系

本页把学术条目落到 iEDA.ai 产品叙事中：你可以从右侧相关能力跳到工具或 AiEDA 模块，用同一套开放状态做复现与扩展。